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  13*******43 2022-02-26
  清洁有机物和颗粒物 去离子水 5份 1份氨水 1 份30%浓度的过氧化氢 将晶圆浸入溶液中，在 75 - 80 °C的温度下，保持 10 分钟。这种碱-过氧化物混合物可去除有机残留物。颗粒也能被非常有效地去除，甚至是不溶性颗粒。
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  13*******30 2022-02-26
  硅片晶圆RCA清洗流程 硅片清洁是芯片制造中非常重要的步骤，其中RCA清洁流程，是行业广泛使用的清流流程，是由美国RCA公司的Werner Kern在1965年开发而成。以后进实验室后，一个星期可能要清洁硅片上百次，高中就提前熟悉起来，以后可以大幅提高你的实验效率。
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  13*******84 2022-02-26
  任务1:硅片晶圆切割 首席，可以在淘宝上买些硅片晶圆，这就是芯片制造里用到的最基本材料。熟悉晶圆是芯片制造人的第一课。
  此外，还需购买一把金刚石刀。拿着你的小金刚石刀，就在硅片上划拉吧。需要熟练掌握100晶面的切割方法，111晶面的切割方法。以后进实验室需要大量切硅片，你高中就把切硅片练到炉火纯青，以后进实验室一定会惊艳导师和师兄师姐的，未来可期！